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光學(xué)隔振平臺的各項常見指標(biāo)的意義及檢測方法介紹
更新時間:2021-12-03   點擊次數(shù):2112次
  光學(xué)隔振平臺又稱光學(xué)面包板、光學(xué)桌面、科學(xué)桌面、實驗平臺,供水平、穩(wěn)定的臺面,一般平臺都需要進行隔振等措施,保證其不受外界因素干擾,使科學(xué)實驗正常進行。
 

 

  今天小編要與大家分享的是光學(xué)隔振平臺的各項常見指標(biāo)的意義及檢測方法:
  1、平面度(≤0.05㎜/㎡)
  該指標(biāo)越小即表明臺面越平整,調(diào)整光路就越容易。一般出廠要求平面度小于0.05㎜/㎡,檢測方法一般有:光電自準(zhǔn)直儀法、光學(xué)平面度檢查儀檢測法、水平儀檢測法、激光平面度檢測儀等等。對安裝在實驗室的平臺平面度一般采用光電直準(zhǔn)儀和光學(xué)平直度檢查儀檢測,經(jīng)計算后得出。
  2、固有頻率(≤2Hz)
  固有頻率也稱自然頻率、自振頻率,只有在環(huán)境擾動力頻率(f)與固有頻率(fo)的比值f/fo>√2時系統(tǒng)才有隔振作用。所以固有頻率越低,隔振效果效果就越好。該指標(biāo)的檢測一般采用振動頻譜分析儀及便攜式振動分析儀來進行多點測量,如供應(yīng)商不具備儀器測量,您也可用以下方法:用手用力壓下(或側(cè)推)平臺,然后迅速松開,讓其大幅度上下振動(或左右、前后擺動)起來,如一秒鐘內(nèi)往復(fù)一次即為1Hz,二次即為2Hz,依此類推。
  3、表面密迪紋理及粗糙度(Ra≤0.8μm)
  該指標(biāo)的意義在于保證其有一個光滑但無反射的工作表面。良好的表面粗糙度有利對實驗儀器的保護,產(chǎn)品出廠要求一般在Ra≤0.8μm以下,粗糙度完成可采用對比樣板目測和粗糙度儀檢測,如果是現(xiàn)場檢測可采用粗糙度儀完成。
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